Nanostruktury powierzchniowe
Aparatura
System UHV I: Mikroskopy PEEM/ LEEM (Photoemission Electron Microscope/ Low Energy Electron Microscope) firmy Elmitec
Mikroskopy przeznaczone są do obrazowania nanostruktur powierzchniowych w mezoskali w czasie rzeczywistym w zakresie temperatur od (-180 ÷ 1200°C). W mikroskopach można mierzyć próbki przygotowane zarówno ex-situ jak i in-situ.
Mikroskopy są wyposażone w komory preparacyjne zawierające:
- układ do epitaksji z wiązek molekularnych (MBE)
- spektrometr elektronów Auger’a (AES)
- dyfraktometr elektronów niskoenergetycznych (LEED)
- analizator gazów resztkowych (RGA)
- działo jonowe
- system dozowania gazów.
System UHV II: Aparatura do analiz w warunkach próżniowych warstw epitaksjalnych na monokrystalicznych podłożach.
Wyposażenie:
- układ do epitaksji z wiązek molekularnych (MBE)
- spektrometr elektronów Auger’a (AES)
- dyfraktometr elektronów niskoenergetycznych (LEED)
- skaningowy mikroskop tunelowy (RT-STM)
- spektrometr Mössbauera elektronów konwersji (CEMS)
- bombardowanie i trawienie jonowe;
- chłodzenie/grzanie próbek w zakresie 100 K – 2000 K
- analizator gazów resztkowych (RGA)
- system dozowania gazów
- próżnia bazowa < 1*10-10 mbar
System UHV III: Aparatura przeznaczona jest do badań powierzchni ciał stałych litych i proszkowych w warunkach ultra wysokiej próżni (UHV).
Wyposażenie:
- układ do epitaksji z wiązek molekularnych (MBE);
- spektroskopia fotoelektronów (XPS);
- mikroskopia ze skanującą sondą (SPM:STM/AFM);
- dyfrakcja niskoenergetycznych elektronów (LEED/AES);
- temperaturowo programowalna desorpcja (TPD); (RGA SRS 200);
- chłodzenie/grzanie próbek w zakresie 100 K – 2000 K;
- bombardowanie i trawienie jonowe;
- analizator gazów resztkowych (RGA);
- system dozowania gazów;
- wysokociśnieniowy reaktor katalityczny;
- próżnia bazowa < 1*10-10 mbar.